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等離子刻蝕設(shè)備腔體
  • 等離子刻蝕設(shè)備腔體
產(chǎn)品名稱

等離子刻蝕設(shè)備腔體
加工精度 0.01mm
是否定制 可按圖紙定制
粗糙度 0.1μm
材料成分 微晶玻璃
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在先進(jìn)半導(dǎo)體制造中，等離子刻蝕設(shè)備對結(jié)構(gòu)材料的熱穩(wěn)定性、尺寸精度和表面質(zhì)量提出了極高要求
而使用微晶玻璃作為等離子刻蝕腔體可以大幅提升設(shè)備的熱穩(wěn)定性和刻蝕均勻性。微晶玻璃（Zerodur）具備極低的熱膨脹系數(shù)，可達(dá)（CTE ≈ 0 ± 0.02 × 10??/K）能夠保證腔體在高頻加熱或冷卻過程中的尺寸穩(wěn)定性，同時微晶玻璃可達(dá)到光學(xué)級的表面粗糙度，有助于提升等離子體均勻性

 

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